Установка вакуумного термического напыления тонких пленок
Ответственный сотрудник: к.х.н., зав.лаб. Тарасов Алексей Борисович
Технические характеристики:
• Объем вакуумной камеры – 300 литров;
• Глубина вакуума - не менее 5*10-4 Па;
• Максимальная температура напыления – 1500 оС;
• Материал испарительного тигля – вольфрам, корунд;
• Скорость откачки высоковакуумного насоса – не менее 720 л/с;
• Отклонение толщины напыления от средней величины толщины подложки - не более 5%;
• Контроль толщины напыления - по кварцевым водоохлаждаемых измерителям толщины (КИТ) с пневмозаслонками.
Назначение: Установка предназначена для осаждения тонких пленок и гетероструктур с целью создания перспективных материалов электрохимической энергетики, оптоэлектроники и фотоэлектрических преобразователей нового поколения.
Производитель: «Дана Инжиниринг», Россия
Год выпуска: 2022
Расписание работы на приборе:
|
ПН |
ВТ |
СР |
ЧТ |
ПТ |
|
03.04.23 Ионная подготовка подложек, напыление неорганических полупроводников Оператор: |
04.04.23 Ионная подготовка подложек, напыление неорганических полупроводников Оператор: |
05.04.23 Напыление органических полупроводников и металлов Оператор: |
06.04.23 Напыление органических полупроводников и металлов Оператор: |
07.04.23 Напыление плёнок диэлектриков Оператор: |
|
10.04.23 Напыление плёнок диэлектриков Оператор: |
11.04.23 Напыление органических полупроводников и металлов Оператор: |
12.04.23 Напыление органических полупроводников и металлов Оператор: |
13.04.23 Напыление плёнок металлов Оператор: |
14.04.23 Напыление органических полупроводников и металлов Оператор: |